Placa de rotação revestida com TaC

A placa de rotação revestida com TaC da Semixlab foi projetada para ambientes de alta temperatura e corrosivos, comuns em processos de epitaxia de semicondutores, CVD e crescimento de cristais. Essas placas de rotação desempenham um papel fundamental no suporte de wafers ou susceptores durante a rotação contínua do substrato, garantindo distribuição térmica e deposição uniformes. Ao aplicar um revestimento de carbeto de tântalo (TaC), este componente alcança durabilidade excepcional, estabilidade térmica e longevidade do processo em aplicações exigentes de semicondutores em vácuo e alta temperatura.

Serviços de personalização e suporte da Semixlab

● Espessura e geometria do revestimento personalizadas

Seja para placas de rotação de 200 mm, 300 mm ou personalizadas, a equipe da Semixlanb oferece soluções de revestimento TaC com geometria específica, adaptadas ao seu ambiente de processo.

● Consultoria para Seleção de Materiais

Precisa de ajuda para escolher entre substratos de grafite, SiC ou quartzo? Nossos engenheiros auxiliam na escolha do material base ideal para o seu revestimento de TaC.

● Serviços de prototipagem rápida e produção em pequenos lotes

Ideal para P&D e produção piloto, a Semixlab oferece suporte a pedidos com quantidades mínimas reduzidas e prazos de entrega curtos.

● Suporte pós-venda ágil

Desde orientações de instalação até o monitoramento do desempenho do revestimento, nossa equipe técnica garante que você obtenha valor e confiabilidade a longo prazo de cada componente que fornecemos.

● Crescimento epitaxial de SiC e GaN

● Deposição Química de Vapor Metalorgânica (MOCVD)

● Deposição Química de Vapor a Baixa/Alta Pressão (LPCVD / HPCVD)

● Fornos para crescimento de cristais de safira e SiC

● Câmaras avançadas de processamento de filmes finos

Forno de crescimento epitaxial de carbeto de silício e acessórios de núcleo

Como fabricante e fornecedor líder de placas rotativas revestidas com TaC na China, a Semixlab, com sua profunda experiência no setor, tecnologia de revestimento de precisão e forte compromisso com a inovação, fornece componentes revestidos com TaC que atendem aos rigorosos padrões da indústria de semicondutores. Esperamos sinceramente nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

Principais propriedades físicas e vantagens de desempenho

1. Estabilidade térmica excepcional

O TaC possui um ponto de fusão superior a 3880°C, tornando a placa rotativa revestida excepcionalmente estável durante o processamento prolongado em altas temperaturas.

Essa resiliência térmica é crucial para os sistemas MOCVD, LPCVD e PVD, onde os substratos são expostos a temperaturas extremas e flutuantes.

2. Inércia química superior

O carboneto de tântalo é quimicamente inerte à maioria dos gases agressivos e subprodutos corrosivos, incluindo cloro, hidrogênio e compostos halogenados.

Essa resistência química garante desempenho a longo prazo e reduz os riscos de contaminação, fatores críticos para a epitaxia de SiC, deposição de GaN e crescimento de filmes de óxido.

3. Dureza e resistência à erosão excepcionais

Com uma dureza Vickers superior a 2000 HV, a superfície revestida com TaC resiste ao desgaste mecânico causado por mecanismos rotativos e impacto de partículas.

Essa vantagem se traduz em maior vida útil e menor frequência de substituição, minimizando o tempo de inatividade para manutenção na produção de semicondutores.
Linhas.

4. Excelente uniformidade e adesão do revestimento

O processo de revestimento CVD patenteado da Semixlab garante camadas de TaC densas, uniformes e bem aderidas, que são essenciais para resultados de processo consistentes e geração mínima de partículas.