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Banho de quartzo semicondutor
Detalhe rápido:
1. Outros nomes: Tanque de quartzo para semicondutores, banho de quartzo para semicondutores, tanque de quartzo para semicondutores.
2. Aplicação: O banho de quartzo para semicondutores é um componente de alta pureza e resistente à corrosão, projetado especificamente para limpeza de precisão e processamento químico na fabricação de semicondutores. Desenvolvido para compatibilidade com os sistemas WS-620C/WS-820C/WS-820L, este banho de quartzo opera em condições de alta temperatura (até 175 °C) e é otimizado para uso com soluções de ácido fosfórico (H₃PO₄), garantindo desempenho excepcional em processos críticos de limpeza de wafers.
3. Parâmetros principais:
Quartzo fundido (>99.99% SiO₂).
Excepcional inércia química ao H₃PO₄ (ácido fosfórico) em temperaturas elevadas, prevenindo a degradação ou a geração de partículas.
Suporta operação contínua a 160°C e temperaturas de pico de 175°C, mantendo a integridade estrutural e a estabilidade dimensional.
Descrição
O banho de quartzo para semicondutores é um componente de alta pureza e resistente à corrosão, projetado especificamente para limpeza de precisão e processamento químico na fabricação de semicondutores. Compatível com os sistemas WS-620C/WS-820C/WS-820L, este banho de quartzo opera em altas temperaturas (até 175 °C) e é otimizado para uso com soluções de ácido fosfórico (H₃PO₄), garantindo desempenho excepcional em processos críticos de limpeza de wafers.
Principais funcionalidades
Superioridade material
Quartzo de alta pureza: Fabricado a partir de quartzo fundido sintético (>99.99% SiO₂), garantindo contaminação mínima e resistência ao choque térmico.
Resistência Ácida
Excepcional inércia química ao H₃PO₄ (ácido fosfórico) em temperaturas elevadas, prevenindo a degradação ou a geração de partículas.
Estabilidade térmica
Suporta operação contínua a 160°C e temperaturas de pico de 180°C, mantendo a integridade estrutural e a estabilidade dimensional.
Benefícios de desempenho
Controle de contaminação: O acabamento de superfície ultraliso minimiza a adesão de partículas, o que é fundamental para processos de fabricação de semicondutores em escala submicrométrica.
Longevidade: A resistência do quartzo à corrosão ácida e à fadiga térmica prolonga a vida útil, reduzindo o tempo de inatividade e os custos de manutenção.
Consistência do processo: A condutividade térmica estável garante uma distribuição uniforme da temperatura, aumentando a eficiência e a repetibilidade da limpeza.
Por que escolher o banho de quartzo para semicondutores da Semixlab?
Qualidade de nível semicondutor: Produzido em ambiente de sala limpa para atender aos padrões SEMI.
Soluções personalizadas: Projetos sob medida disponíveis para atender a requisitos específicos do processo.
Confiabilidade: Testes de qualidade rigorosos garantem a conformidade com as exigências da indústria de semicondutores.
Especificações
| propriedade mecânica | Densidade (g/cm3) | 2.2 |
| Dureza de Mohs | 6-7 | |
| Resistência à compressão (MPa) | 1100 | |
| Resistência à tração (N/mm²)2) | 50 | |
| Resistência à flexão (N/mm²)2) | 65 | |
| Resistência à torção (N/mm²)2) | 30 | |
| Módulo de Young (MPa) | 7.2x104 | |
| Coeficiente de Poisson | 0.16 | |
| Propriedades térmicas | Coeficiente de expansão térmica (20~320℃,k-1) | 5.5x10-7 |
| Condutividade térmica (20℃, W·m-1k-1) | 1.4 | |
| Calor específico (20℃, J·kg-1k-1) | 670 | |
| Ponto de amolecimento (℃) | 1700 | |
| Ponto de recozimento (℃) | 1180 | |
| Ponto de tensão (℃) | 1080 | |
| Propriedade elétrica | Resistividade elétrica (Ω·m) | 1x1016(20 ℃) |
| Constante dielétrica (10 GHz) | 3.74 | |
| Perda dielétrica (10 GHz) | 0.0002 | |
| Rigidez dielétrica (V·m-1) | 3.7x107 |
Aplicações
Limpeza de wafers: Remoção de fotorresistente, resíduos e contaminantes em soluções à base de H₃PO₄ após a gravação ou litografia.
Processos de Alta Temperatura: Adequado para etapas avançadas de fabricação de semicondutores que exigem reações químicas agressivas em temperaturas elevadas.
Compatibilidade: Ideal para sistemas WS-620C/ WS-820C/ WS-820L em fábricas que produzem dispositivos lógicos, de memória ou de potência.
