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Notícias Popular
SEMICON China 2026: Semixlab apresenta inovações em revestimento de SiC e TaC para epitaxia de semicondutores.
2026-04-03
Notícias Globais da Semixlab — Temos o prazer de compartilhar uma importante atualização de nossa linha de produção. Em 27 de novembro de 2025, a estrutura principal de nossa base de produção e P&D — a Zhejiang Liufang Semiconductor Technology — atingiu oficialmente sua altura máxima. Isso representa um avanço definitivo em capacidade para a Semixlab como fornecedora global de materiais semicondutores avançados.
A equipe do projeto demonstrou o que especialistas do setor chamam de "Aceleração Liufang", realizando uma transição perfeita da fase estrutural para a prontidão final dos equipamentos. As instalações foram projetadas especificamente para abrigar fornos CVD de alta temperatura de última geração, fornos de purificação a vácuo ultra-alto e um conjunto completo de centros de usinagem CNC de precisão.
Análise detalhada de materiais críticos pan-semicondutores
Com essa nova infraestrutura, a Semixlab está ampliando suas capacidades de fabricação em toda a cadeia, abrangendo desde o fornecimento de matéria-prima (grafite isostático importado de alta qualidade), usinagem de precisão, ultra-purificação (atingindo níveis de cinzas < 5 ppm por meio de testes GDMS) até deposição CVD de alto desempenho.
A nova base expandirá significativamente a capacidade de produção das seguintes linhas de produtos semicondutores estratégicos:
| Categoria de Produto | Especificações e capacidades técnicas principais | Aplicações primárias de semicondutores |
| Produtos revestidos com CVD SiC |
• Pureza: >99.99995% • Estrutura: 100% fase β FCC, orientada em (111) • Controle de uniformidade de espessura: dentro de 10 μm |
• Epitaxia de silício • Epitaxia MOCVD de LED/GaN • Componentes em forma de meia-lua de epitaxia de SiC |
| Produtos de revestimento TaC |
• Resistência à temperatura: até 2600 °C • Alta resistência a gases agressivos (H2, NH3, SiH4) • Força de adesão do revestimento ultra-alta |
• Crescimento de cristais semicondutores de terceira geração (SiC/GaN) • Campos térmicos de aquecimento por indução de alta temperatura |
| Revestimento de carbono pirolítico (PyC) |
• Vedação de superfície densa e não porosa • Teor total de impurezas < 20 ppm • Alta integridade de vácuo até 1800 °C |
• Modificação do aquecedor de grafite • Peças de crescimento de monocristais CZ/PV |
| Cerâmicas e compósitos de alta pureza |
• Pureza do SiC recristalizado (R-SiC) >99.96% • Compósitos de carbono-carbono (C/C) com cinzas ≤ 20-65 ppm |
• Tubos e pás em balanço para fornos de difusão, oxidação e recozimento • Anéis RTP/EPI de alta carga |
Capacidades de fabricação em escala ampliada e linhas CVD avançadas da Semixlab
Um compromisso com os padrões globais de qualidade
Semixlab - equipamentos de teste de laboratório
Apoiado por uma equipe de tecnologia de classe mundial originária de instituições de ponta como a Universidade de Zhejiang e a Academia Chinesa de Ciências, o ecossistema de fabricação da Semixlab opera rigorosamente sob as certificações ISO 9001, ISO 14001 e ISO 45001.
Como afirmou He Shaolong, CEO e professor, durante a cerimônia, esta nova instalação é uma resposta vital à demanda da indústria global de semicondutores por componentes de materiais estáveis, de alta pureza e alto desempenho. A aceleração desta base garante que a Semixlab continue sendo seu parceiro mais ágil, confiável e tecnologicamente avançado em toda a cadeia de suprimentos de semicondutores.
Para mapeamento personalizado, fichas técnicas de GDMS ou kits de teste de componentes, entre em contato diretamente com nossa divisão de vendas internacionais na Semixlab.
