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Revestimento de carboneto de silício (SiC) CVD

Revestimento de carboneto de silício (SiC) CVD

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Barco de wafer revestido com SiC por CVD para difusão de oxidação
Barco de wafer revestido com SiC por CVD para difusão de oxidação

Barco de wafer revestido com SiC por CVD para oxidação e difusão


Na fabricação de semicondutores no mundo real, os barcos de wafers são amplamente utilizados em processos de alta temperatura, como oxidação, difusão, recozimento e tratamento térmico. Essas peças afetam diretamente a estabilidade dos wafers, a uniformidade da temperatura e o controle das partículas dentro da câmara.

Descrição

Na Semixlab, fabricamos wafers revestidos com SiC para ambientes exigentes de semicondutores, onde consistência, limpeza e longa vida útil são realmente importantes.

Começamos com cerâmica de carbeto de silício de alta pureza (cerâmica de SiC, pureza acima de 99.9%) e aplicamos um revestimento denso de carbeto de silício CVD (SiC CVD) com pureza 6N. Dessa forma, nossos barcos mantêm sua estabilidade estrutural mesmo após repetidos ciclos de aquecimento e resfriamento, além de contribuírem para a redução dos riscos de contaminação durante a produção.

Afinal, o que é um wafer revestido com SiC?

Um suporte para wafers é basicamente um dispositivo que acomoda vários wafers durante o processamento térmico. Ele mantém os wafers no espaçamento e suporte corretos, garantindo ao mesmo tempo a transferência uniforme de calor entre eles.

Em comparação com os suportes de grafite convencionais, os suportes de cerâmica de SiC avançados oferecem melhor estabilidade térmica, controle de pureza e resistência à oxidação em ambientes de fornos semicondutores. No entanto, sob condições agressivas típicas de semicondutores – ao longo do tempo – podem ocorrer problemas como oxidação superficial, desprendimento de partículas ou erosão química.

É por isso que as pessoas geralmente optam pelo revestimento de SiC.

A camada de carbeto de silício forma um revestimento protetor denso sobre a superfície de grafite. Ela melhora:

-Resistência à oxidação

-Resistência à corrosão química

-Dureza superficial

-Controle de partículas

-Quanto tempo dura a peça?

É por isso que os substratos de silício (SiC) revestidos por CVD são amplamente utilizados em fornos de oxidação, fornos de difusão e outros sistemas de processamento térmico de alta limpeza.

Principais características dos barcos de wafer revestidos com SiC da Semixlab

Superfície de alta pureza

Impurezas podem afetar diretamente o rendimento dos seus wafers. Otimizamos nosso processo de revestimento para atingir pureza de nível semicondutor, ajudando assim a minimizar a contaminação metálica durante a produção.

Grande estabilidade térmica

Durante os processos de oxidação e difusão, os suportes para wafers devem manter a estabilidade dimensional e superfícies ultralimpas sob ciclos repetidos de alta temperatura. Nossos suportes para wafers são projetados para manter suas dimensões mesmo após repetidos ciclos de aquecimento e resfriamento.

Baixa geração de partículas

Como a superfície é densificada, menos grafite fica exposto, o que significa que menos partículas se desprendem e você obtém um ambiente de processo mais limpo.

Cobertura uniforme do revestimento

Estruturas de ranhuras e cantos complexos exigem uma espessura de revestimento consistente. Nosso processo de revestimento interno nos ajuda a obter uma melhor uniformidade da superfície em toda a peça.

Capacidade de usinagem personalizada

Diferentes plataformas de equipamentos exigem dimensões diferentes. Oferecemos suporte a projetos personalizados com base em seus desenhos ou requisitos de processo.

Fabricação e controle de qualidade

Cada substrato para wafers passa por usinagem cerâmica de precisão, preparação de superfície e deposição de revestimento de SiC CVD de alta pureza.

Na Semixlab, cada componente passa por:

-Inspeção de matéria-prima

-Usinagem CNC de precisão

-Tratamento de limpeza de superfície

Revestimento de SiC por CVD

-Verificação dimensional

-Aparência final e inspeção de qualidade

Fazemos isso para que você obtenha um desempenho confiável antes mesmo da peça ser instalada em sua ferramenta.

Por que escolher a Semixlab?

Somos um fabricante especializado em componentes de grafite e revestimento para semicondutores. Auxiliamos nossos clientes com:

-Tecnologia de revestimento interna

-Produção personalizada flexível

-Comunicação rápida em engenharia

-Conhecimento de processos semicondutores

-Capacidade de fornecimento internacional estável

Seja para desenvolver equipamentos, operar uma linha piloto ou realizar produção em massa, nossa equipe de engenharia pode atender às suas necessidades de aplicação.

Se você procura um fornecedor confiável de wafers revestidos com SiC, a Semixlab pode oferecer soluções personalizadas com base em seus desenhos ou condições de processo.

Especificações
Propriedade Valor típico
Material base Cerâmica de carbeto de silício de alta pureza (>99.9%)
Material de revestimento Carboneto de silício CVD (SiC CVD, pureza até 6N)
Espessura do revestimento Personaliza a tua
Temperatura de Operação Até 1600 ° C
Revestimento de superfície Usinado com precisão
Design Personalizado Disponível

As especificações reais podem ser ajustadas dependendo das condições de aplicação.

Aplicações

Aplicação de wafer revestido com SiC por CVD

Nossos substratos para wafers revestidos com SiC são amplamente utilizados em:

● Fornos de oxidação de semicondutores

● Fornos de difusão de semicondutores

● Sistemas de recozimento térmico

● Equipamentos para tratamento térmico de semicondutores

● Aplicações avançadas de P&D em semicondutores

● Processos de recozimento

● Pesquisa de materiais semicondutores de alta temperatura

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