Pastilha de quartzo semicondutora

O wafer de quartzo para semicondutores da Semixlab é um substrato de sílica fundida de altíssima pureza e polimento de precisão, projetado para ambientes exigentes de processamento de semicondutores.

É amplamente utilizado como wafer de teste, wafer de suporte, substrato óptico e base de fotomáscara em sistemas de oxidação térmica, CVD/LPCVD, PECVD e litografia.

Fabricado com SiO₂ de alta pureza (99.99%), este wafer de quartzo oferece estabilidade térmica excepcional, inércia química e transparência óptica, garantindo uma operação estável e livre de contaminação em linhas de produção de semicondutores avançadas.

I. Propriedades do Material e da Superfície

● Material: Sílica fundida sintética ou natural (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Opções de diâmetro: 2", 4", 6", 8", 12" (tamanhos personalizados disponíveis).

● Acabamento da superfície: Polido em ambos os lados, planicidade ≤ 5 μm, rugosidade da superfície ≤ 0.5 nm.

● Resistência térmica: Estável até 1200°C em operação contínua.

● Coeficiente de expansão térmica: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Transmissão óptica: >90% de 190 nm a 2,600 nm.

Cada wafer passa por uma rigorosa inspeção de superfície, verificação dimensional e análise de pureza para garantir total conformidade com os requisitos de grau semicondutor.

II. Funções-chave nos processos de semicondutores

1. Processo de suporte em sistemas CVD e LPCVD

Lâminas de quartzo são usadas como lâminas de suporte ou espaçadoras para estabilizar o fluxo de gás e a uniformidade da temperatura durante a deposição de filmes finos de SiO₂, Si₃N₄ e polisilício. Sua precisão dimensional garante o crescimento uniforme do filme e a geração mínima de partículas ao longo dos ciclos de deposição.

2. Aplicações de fornos de oxidação e difusão

Em processos de oxidação em alta temperatura e difusão de dopantes, as lâminas de quartzo atuam como escudos térmicos ou monitores de processo, mantendo uma distribuição uniforme de temperatura e prevenindo a contaminação das lâminas de produção.

3. Uso de técnicas ópticas e litográficas

Graças à sua alta transmitância óptica e uniformidade do índice de refração, a pastilha de quartzo é ideal para a fabricação de fotomáscaras, substratos para exposição DUV e ferramentas de calibração óptica. Ela garante transmissão de luz consistente para sistemas de litografia i-line, KrF e ArF.

4. Ambientes de plasma e corrosão

Em sistemas de gravação a seco e CVD por plasma, wafers de quartzo são usados ​​como blindagem da câmara ou janelas de plasma, oferecendo excelente rigidez dielétrica e durabilidade química contra gases à base de halogênio (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrologia e Calibração de Equipamentos

As lâminas de quartzo servem como referência para calibração de espessura, temperatura e planicidade de filmes. Sua superfície ultralisa e livre de defeitos permite resultados de medição precisos e repetíveis, garantindo a estabilidade do controle do processo.

Aplicações típicas

● Wafer de teste para sistemas CVD, LPCVD e PECVD

● Suporte de processo ou escudo térmico em fornos de oxidação e difusão

● Substrato de fotomáscara para litografia UV/DUV

● Wafer de referência para calibração e metrologia de equipamentos

● Protetor de janela e processo de gravação da câmara de plasma

O wafer de quartzo para semicondutores da Semixlab é um substrato de alto desempenho projetado para os processos de semicondutores mais exigentes. Sua estabilidade térmica, precisão óptica e pureza química o tornam indispensável em aplicações de deposição, oxidação, litografia e metrologia. Com suporte abrangente em personalização e engenharia, a Semixlab oferece soluções que maximizam a consistência do processo, a confiabilidade do rendimento e a eficiência operacional. Esperamos sinceramente nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.